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代表取締役社長:今村 善一
新素材・半導体・セラミックス関連の研究開発用、生産用加熱装置の設計、製造、販売
1981年6月 丸祥電器製作所として設立。1985年7月 資本金1000万円にて丸祥電器株式会社を設立。2000年11月 資本金3000万に増資
"Heating Technology For The Future"
当社は、精度や制御内容にハイレベルな基準が求められる研究開発用加熱装置をはじめ、生産設備としての加熱装置、その周辺システムに至るまでをトータルに扱う加熱・熱処理技術のエキスパート企業です。現在の最先端技術分野における材料開発においては高度な加熱・熱処理技術が求められ、当社はその分野において細部にわたり高度な技術力を駆使し、またそれらを総結集することにより、数多くの産業界の技術革新と製品開発に大きな足跡を残し、世界に躍進する企業から重要なパートナーとして高く評価されています。今後も、卓越した技術力と安易な妥協を許さないチャレンジスピリットにより、「新しい次元」を求め続ける熱のプロフェッショナル集団として進化し続けます。
35名
6,892m²
昭和56年6月
・噴霧式粉体製造装置
・ロータリー式粉体製造装置
・CNT小型製造実験装置
・ターゲット雰囲気焼成炉
・炉床昇降式小型カーボン炉
・前扉式小型カーボン炉
・気流式真空雰囲気炉
・その他各種焼成、熱処理実験装置
・走査電子顕微鏡(エネルギー分散型X線分析装置付)
・X線回析装置など各種分析装置